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Phenom ProX G7 是飛納推出的台式掃描電鏡能譜一體機，可用於高分子材料微區成分分析，幫助觀察填料、顆粒和缺陷區域。 Phenom ProX G7 電子光學放大倍數可達 350,000 X，分辨率優於 6 nm，采用 CeB6 燈絲，並集成掃描電鏡成像與能譜分析能力，適合形貌觀察、微區元素分析和材料研發檢測。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於第三方檢測實驗室的多類型樣品形貌觀察與分析。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優於 8 nm，適用於日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用。

Phenom Pharos G2 是飛納推出的台式場發射掃描電鏡，可用於半導體表麵缺陷觀察，幫助分析器件表麵、封裝材料和微小缺陷形貌。 Phenom Pharos G2 采用肖特基熱場發射電子槍，電子光學放大倍數可達 2,000,000 X，分辨率優於 1.5 nm，適合對高分辨形貌、精細結構和微納尺度特征有要求的研發與檢測場景。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於岩石礦物顆粒分析，幫助觀察礦物顆粒形貌、結構和局部缺陷。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優於 8 nm，適用於日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於地質礦物樣品觀察，幫助分析礦物顆粒、岩石斷麵和微觀結構。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優於 8 nm，適用於日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用