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Phenom ProX G7 是飛納推出的台式掃描電鏡能譜一體機，可用於高分子材料微區成分分析，幫助觀察填料、顆粒和缺陷區域。 Phenom ProX G7 電子光學放大倍數可達 350,000 X，分辨率優於 6 nm，采用 CeB6 燈絲，並集成掃描電鏡成像與能譜分析能力，適合形貌觀察、微區元素分析和材料研發檢測。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於陶瓷材料斷麵觀察，幫助分析晶粒、孔隙、裂紋和斷裂形貌。Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優於 8 nm，適用於日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於光伏材料表麵缺陷分析，幫助觀察表麵損傷、顆粒和微觀結構。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於電池材料微觀形貌分析，幫助觀察顆粒、孔隙、斷麵和表麵缺陷。

ParticleX Battery 全自動鋰電清潔度分析係統可以全自動對正負極中的鐵類雜質顆粒進行快速識別、分析和分類統計，整個過程無需人工參與。定量磁性雜質顆粒的形態、數量和種類，以此判定是哪個生產環節出了問題。